刻机依赖德-国蔡司镜头、白头鹰联盟国的cymer激光器、樱花国的光刻胶等5000余家供应商的协同创新。所谓“光刻工厂”试图以举国之力重构全链条，但即便抛开技术障碍，其供应链效率也将落后国际水平至少15年——正如华-国的28nm duv光刻机仍无法实现asml 2007年twinsbsp;xt:1900gi的可靠性与吞吐量。”

“三、战略误判：对产业生态的破坏性冲击。”

“扰乱市场秩序。来自华国的订单占asml全球营收的25%，且需求集中于成熟制程。若强行将资源倾注于违背物理规律的技术路径，不仅将导致本土晶圆厂丧失竞争力，更可能引发全球成熟制程产能过剩危机。”

“知识产权风险：asml已监测到多起来自某国企业工程师通过逆向工程、专利规避手段模仿duv光刻机的案例，若“光刻工厂”依赖类似策略，其知识产权纠纷将重创该国半导体产业的国际信誉。”

“最后，我们再次重申一下我们的立场，合作优于对抗。”

“我们理解各国对技术自主的渴望，但是半导体产业需要理性和敬畏，asml的high-na euv光刻机已实现8nm线宽，且每瓦曝光效率提升20%，这才是产业公认的下一代方向。我们呼吁全球客户回归商业本质：与其寄希望于投资数百亿于“光刻工厂”这类科幻项目，不如与asml共同优化成熟制程生态。”

“物理定律没有国界，但违背规律的技术豪赌终将付出代价。”

当这么一篇出自阿斯麦首席技术官迪诺的公开声明出现在网上的时候。

所引起的震荡是无与伦比的。

从这件事爆火起来，就一直有这个领域的专家站出来说话。

但是，这些专家加起来，都没有迪诺一个人的份量重。

就凭借他是阿斯麦的