没有人能想到，光刻工厂居然引起了这么大的反应。

但是，当这件事情真的发生了之后，就没有人还能控制得住了。

风车国的阿斯麦也罕见地站了出来，对于光刻工厂方案进行评价。

作为目前光刻设备领域的龙头企业。

更是占据市场主流的巨无霸。

阿斯麦毫无疑问是这个领域的权威。

所以阿斯麦说出来的内容，自然就带有极强的权威性。

“尊敬的业界同仁和合作伙伴：近期，我们注意到某些市场传闻称，某些企业正试图通过所谓的‘光刻工厂’方案，即利用大型同步辐射光源设施替代传统euv光刻机，来‘绕开’全球半导体产业的技术壁垒，作为全球光刻技术的领导者，asml有必要从技术规律与产业现实出发，对此类设想提出专业质疑。”

“一、技术可行性：物理定律的边界不可逾约……”

“光源本质差异，同步辐射光源的物理特性与euv光刻所需的13.5nm高功率、高稳定性激光等离子体光源存在根本性矛盾……”

“系统集成灾难，光刻机是10万级精密零件的系统集成艺术，而“光刻工厂”试图将光源、光学系统、掩模台、晶圆台等模块分散于百米级设施中，震动、温度、尘埃控制等基础工程问题足以摧毁任何纳米级的精度要求……”

“二、商业逻辑：背离产业规律的空想。”

“成本黑洞，同步辐射光源的建设与维护成本高达百亿，且单词暴光能耗堪比小型城市用电量，反观asml的euv光刻机，虽单价1.5亿欧元，但其每小时处理300片晶圆的效率已摊薄至每片芯片成本可忽略不计。若“光刻工厂”量产7nm芯片，其单位成本将是现有技术的千倍以上。”

“产业链割裂，半导体制造是全球化分工的典范。asml的euv光