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第291章 半导体提议,光刻厂!(6 / 12)

过粒子对撞,实现极紫外光源,然后通过光刻厂的模式,实现euv光刻机的效果。”

……

“当然,我并非半导体专业人士,以上内容只是基于我不成熟的想法,随口一说。”

“能不能实现,我就不知道了。若是不能实现,还请各位大佬海涵。”

至于能不能实现,他也不知道,但理论上应该可以。

前世华清大学的euv光刻机,就是要走这个路线,完全不同于阿斯麦的技术路线。

若是真能实现,直接从根源上避开了阿斯麦的专利。

毕竟极紫外光源的产生方式都不一样,也就没有侵犯专利这一说了。

国产技术突破的难度,不只是要做出同样的产品和等效的技术,还要避开西方的专利壁垒,采取完全不同的技术路线。

这就难上加难了。

但即便如此,前世依旧把工业皇冠上的明珠,差点全部摘秃噜皮。

秦主任笑着伸出手:“谢谢,你这些观点很重要,我这就上报。无论如何,都很感谢。”

“主任言重了,若是我说得不对,你们就当我瞎说,海涵。”

“呵呵,那不会。科学的探索本就是知无不言,言无不尽。何况是这么别出心裁的建议,意义重大!”

王逸摆了摆手:“不成熟的想法罢了,希望有点参考价值。光刻机这个东西难,光刻胶也难,都得看国家机器了。”

秦主任点点头:“放心,光刻胶也是官方大力扶持的领域,必须突破!”

王逸松了口气,若是这些难题官方都逐步搞定,那就稳了。

又交流了一番,王逸离开管委会。

而秦主任则直奔某机要之地,汇报王逸的想法。

不管成不成的,都是一个新的思路,让院士专家鉴定一下也好。

不成,可以当

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