后来则是相机业的霸主。而阿斯麦的镜头则来自于卡尔蔡司，这家公司干嘛的就不用说了，地球人都知道。光刻机离开了这两家光学企业，什么摩尔定律都得去见鬼。

当然，这并不是说就没有其他办法来提高工艺条件了。除了镜头，实际上使用何种光源也会导致线宽的不同。不同波长的光波，就如不同规格的刻刀。波长越短的光波，就能够在光刻胶上留下越细的痕迹。最早的光刻机因为加工精度不高。使用的汞灯只能提供365nm的i线光。后来更换了准分子激光之后，光波才降低到了193nm的激光。

未来想要缩小刻蚀的分辨率，甚至还要继续上14nm的极紫外光。至于10纳米以下，可能人类的科技就已经研究出其他的加工方式了吧。

当然这些只是不准确的科普说法，如果具体要解释一下光波和刻蚀分辨率的关系，或者解释一下照准系统的最大分辨率概念之类的……

本书的长度恐怕会有些不足，以及略有骗稿费的嫌疑。虽然这些知识如果真的讲出来千字3分就太便宜了。本着经不轻传的道理（其实作者也不懂）就不多说了。

言归正传，涂岸北脑海中灵光一现，正是水的一种特性。那就是光通过液体介质后光源波长就会缩短。其缩短的倍率即为液体介质的折射率。也就是说光刻机的光源如果在照射到光刻胶之前先在水中穿行一次，就相当于换了一个更细的刻刀。

而水的折射率是1.44，当0.8微米波长的光线穿过水之后，0.8除以1.44岂不正是0.56微米？如果这项技术真的有可行性。那确实是可以在不提高精密制造水平的前提下，得到更高一代的芯片制程技术。

这么简单的原理，周硕当然不是第一个想到的。用水缩短光源的波长来提高制程工艺。是未来光刻机普遍采用的技术。也就是学名叫做沉浸式光刻机的设备。通过不断努力，未来的光刻机早