“你说的都是优点，我想半导体领域应该也有人能想到这一点，但是却没有人这么做，也没有这样的尝试，这里面肯定还是存在着一些问题。”

“从目前的情况来看，应该是坏处多于好处，所以你说的光刻工厂可行性暂且不说，你如何能证明它建造完成之后，可以超过光刻机。”

听到沈总管指出这个问题，王东来脸上浮现出一丝笑意。

“领导，您说的确实是一个很重要的问题。”

“关于这一点，我也可以做一个简单的解释。”

“光刻机也存在优点和缺点，它的缺点是光源相干性极差，使用反射镜滤光单镜光源损耗率30％，总损耗98％，asml使用的反射镜全世界只有蔡司能够生产。”

“第二，光刻机的锡污染以及光路散热工程造成易损件成本增加，高na升级到600瓦光源功率，使得整机成本增加到四倍。”

“第三，光刻机的生产效率低下，以3400b来说，该euv光刻机的生产效率是每小时125片晶圆，还不到duv光刻机生产效率的一半，毫无疑问，该光刻机的生产效率不高，将直接导致芯片的生产成本居高不下。”

“最后，便是光刻机的耗电量大，tjd的所有euv光刻机开工用电量将会占用半个三峡电站的发电量。”

“至于光刻机的好处我就不提了，我再说说光刻工厂的优缺点。”

“缺点有一点很重要的，那就是波荡器、扭摆器、尾场激光器三大件，不能产生瞬间磁场的弯铁必须淘汰，还没有这样的装置进行验证。”

“如果说光刻机是机床的话，光刻工厂就是一个车间，把光刻机尽量放大，用一台周长100到150米的环形加速器来作为光源，然后带动数台甚至是数十台光刻机进行工作。”

“我们在追赶荷兰的光刻机时，如果只想着因循