光率所以当紫外线光通过液体介质后其光源波长会缩短。从而起到精微刻制的作用。

用主流的三百六十纳米技术来说采用折射率为一点五的液体其光波就能变成二百四十纳米！

而寰宇公司费尽心机弄回来的二百四十八纳米地光刻机采用了一点五地浸入式技术立即就摇身一变成为一百六十五纳米光刻机远远过现有的光刻技术！

其实浸入式光刻并非寰宇公司创。但真正长期将其作为一个研究项目的研究单位全世界也只有寰宇公司。

光刻技术的展从一代技术向下一代技术展地时候。总会出现瓶颈。

因此早在八零年。就有科学家采用浸入技术成功地提高了光刻效果。然而由于浸入式光刻技术它的液体很容易污染光学镜片所以主流光刻技术研究只是将其作为一个过渡手段没有重视。一旦下一代光刻技术成熟便毫不犹豫地抛弃浸入式光刻。

但寰宇公司不同。

汪工等精密仪器公司的研究人员。虽然使出浑身解数。但限于光学技术的制约。在光刻机上总是落后于西方。

穷则变。变则通。

他们为了改进光刻精度。把所有可以利用的技术都使用遍了。最后经过反复研究。他们在不放弃光学研究地同时将主要精力。都投入了浸入式光刻技术的研究并于近期取得了极大地成果。

他们开出了全套地浸入式技术。

如折光率不同的液体就从一点五五到二不等的多种浸入式液体材料。

而影响到光刻效果的液体泡沫、透光率、专用光刻胶等等相关研究也取得了巨大的成功已经初步可以实用化。

精密仪器实验室已经选定了一种特制液体作为浸入式光刻技术地主要材料。

这种液体的折射率高达一点七。通过实验和技术手段改进其透光率也完全可以应用于大规模生产。

只要