不止关注生物医药领域。

在前几年国产半导体大火的时候，young对国产半导体行业有很深的研究。

他完全不像程钢那么乐观：

“国产光刻机远没有外界宣传的乐观，目前国产光刻机实现了28nm的制程，但是良品率远没有asml来的高。”

“更重要的在于28nm好研究，但是想再往前，14nm、7nm的光刻机会异常困难。”

“目前光刻机指标有node cd和half-pitch cd。”

“half-pitch cd 是专用于光刻领域描述光刻分辨度的技术指标。比如说前一代193i光刻机， hp cd极限值等于38 nm.现在的euv nxe 3400b可以做到极限13nm.”

“node cd跟 hp cd不是一个概念。”

“node cd是一个半导体器件的概念，目前主流媒体所说的技术节点便是这个node cd。”

“一般来说 node cd约等于1/2 *hp cd。”

cd全称是critical dimension

“其中11年 intel首先将finfet技术引入22 nm节点。”

“22nm要求 44nm的光刻hp cd。这个要求在实际工艺中很难实现，太接近38nm极限值了。”

“所以intel率先使用double patterning技术。这一技术把同一层的非常靠近的光刻图案分解到两个掩模(mask)上。分两次曝光实现。”

“同理，self-aligned的技术也被引入，三次曝光，四次曝光都成为了可能。”

程钢听得满脸问号，内心对young在半导体领域的造诣之深感到震惊。

五十岁