流程的技术资料，先后在全国和世界范围内申请了专利。

根据构想，后续超级智能机器视觉相关的极大多数关键节点都囊括在了这批专利之中。

未来，阿斯麦在发现euv光刻机精度再难提升，更高级的光源很难获得或者即便获得了也无法立即应用于光刻机的制造之后，也会开始在这方面投入更多的力量。

事实上，机器视觉是一个很宽的课题，现在的光刻机也有应用一些这方面的基础技术能力，但研究的深度确实不够。

原因也很简单，在机器学习的时代，智能化程度提升的难度太大，在euv达到瓶颈之前，阿斯麦并没有在这上边花费太多的心思。

不过，康硕可完全没有智能化程度提升难度大的问题，混沌最擅长的就是这个了。所以，他把机器是学光刻机应用前进道路上所有能想到的坑全都提前占了。

把这整套技术用到duv光刻机上，达到阿斯麦euv光刻机的水准，满足7~5nm精度的光刻机工艺需求，就是这次跟沪都微电子的合作项目。

“这也是没办法的事情，如果国内有euv，再利用这项技术，都可以直接突破2nm了！”康硕颇为遗憾的想着。