“台积电今年有增产计划吗？他们退订了尼康的光刻机，却扩建了净水规模，这合理吗？”

“还有，你听没听说过湿刻法？”

拜伦就喜欢老板这么直来直去的，而且是在他擅长的领域，一点不废话。

“据我所知，台积电没有增产计划。”

“第二，都退订了，还要那么多水干什么？有病啊？”

“第三，什么是湿刻法？你又不懂技术，别瞎出主意！”

齐磊，“挂了！”

现在，他可以基本确定，euv llc就是在搞湿刻。

在湿刻法，也就是浸润式光刻机出来之前，几大光刻机厂家，包括尼康、阿斯麦等等，都是干刻。

所谓光刻，就是把光打在掩模板上，再投射到晶圆上面，使得晶圆上的光学胶水发生反应，行程电路的过程。

干刻时代，从光源到掩模板再到晶圆是在气体介质中完成光刻的，极限就是193纳米。

而湿刻，顾名思义，就是把在气体介质中进行的光刻过程移到水里。

具体怎么回事儿，反正齐磊也不懂，就知道湿刻比干刻有优势，可以在不改变光刻机其它部件和精度的情况下，突破193纳米的极限。

这也是齐磊在后世的报道中得到的只言片语。

而且还知道，这个从干刻到湿刻的过程，正是台积电的一个技术人员提出来的。

他也是偶然的一个创意，随口说了句，“只要往光刻机里注水，芯片制程就能大幅度提高。”

最后成就了这次技术革命。

是的，没错，就是这么简单！

虽然由原本的光刻技术到湿刻的过程肯定比这么一句话复杂得多，也有难度得多。

可是，原理就是这么简单，就是一个随口而出的创意。

而euv l